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一种CMOS图像传感器及其制造方法[发明专利]

来源:微智科技网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种CMOS图像传感器及其制造方法专利类型:发明专利

发明人:陈多金,唐冕,陈杰,旷章曲申请号:CN201310104808.X申请日:20130328公开号:CN103151365A公开日:20130612

摘要:本发明公开了一种CMOS图像传感器及其制造方法,其中,该传感器包括:基底及位于基底上方的像素单元;所述像素单元包括:阴性金属氧化物半导体NMOS管及感光二极管;所述NMOS管的源极和漏极及所述感光二极管的感光区为阴性N型注入层,所述NMOS管与感光二极管通过阳性P型注入层连为一体,且所述P型注入层与所述NMOS管及感光二极管中的N型注入层形成PN结;所述像素单元通过PN结及设置在基底上部的P型掩埋层与所述基底连为一体。通过使用本发明公开的CMOS图像传感器提高了灵敏度高及成像质量,降低了暗电流。

申请人:北京思比科微电子技术股份有限公司

地址:100085 北京市海淀区上地五街7号昊海大厦二层201室

国籍:CN

代理机构:北京凯特来知识产权代理有限公司

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