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含有阴离子聚合物或非离子聚合物和羧基聚硅氧烷的化妆组合物[发明专利]

来源:微智科技网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:含有阴离子聚合物或非离子聚合物和羧基聚硅氧烷

的化妆组合物

专利类型:发明专利发明人:C·迪皮伊申请号:CN97181139.3申请日:19971027公开号:CN12447A公开日:20000216

摘要:本发明涉及用于处理角质纤维,特别是头发的组合物,该组合物包括至少一种阴离子聚合物或非离子聚合物,以及至少一种含有至少一个羧酸官能团的聚硅氧烷,还涉及用这种组合物处理角质纤维的方法。

申请人:莱雅公司

地址:法国巴黎

国籍:FR

代理机构:中国专利代理()有限公司

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