离心喷雾干燥机

中国材料科技与设备（双月刊）　工作。　脉冲激光和磁控溅射沉积Ｍｏ薄膜研究　２００７年・第５期　参考文献：　［１］经福谦．实验物态方程导论［Ｍ］．北京：国防科技出版社，　１９９８：２３—５３　３　结论　（１）ＰＬＤ沉积的Ｍｏ的表面形貌受沉积能量和基体温度　［２］吕学超，任大鹏，等．微米量级Ｍｏ薄膜抛光法制备技术研　究［Ｒ］．内部资料，２００５　［３］王勤国．利用ｘ射线掠入射法测量薄膜的厚度与密度［Ｒ］．　内部资料，１９９８　ｒ４］Ｔｈｏｍａｓ　Ｚ．Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ　ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ　ｏｆ　ｅｘｃｉｍｅｒ　ｌａｓｅｒｓ．ＳＰＩＥ　Ｖ６６８，０２７７—７８６Ｘ，１９８６：３３９—３４６　的影响较大，能量越高、表面缺陷增多。采用ＭＳ沉积的Ｍｏ　薄膜较致密，呈典型的柱状生长行为。　（２）ＰＬＤ和ＭＳ沉积的Ｍｏ薄膜的表面粗糙度较好，均小于　２０ｎｍ。采用ＭＳ方法沉积的Ｍｏ薄膜具有高度一致性。　［５］吕学超，汪小琳，张延志，等．Ｅｆｆｅｃｔ　ｏｆ　Ｂｉａｓ　Ｖｏｌｔａｇｅ　ｏｎ　Ｍｉ—　ｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅ　ｏｆ　Ｄ．Ｃ．Ｍａｇｎｅｔｒｏｎ　Ｓｐｕｔｔｅｒｅｄ　Ａｌ　Ｃｏａｔｉｎｇｓ　ｏｎ　Ｕｒａｎｉｕｍ　［Ｊ］．中国有色金属学报，２００４：１４（ｓ２），２４７—２５．　Ｓｔｕｄｙ　ｏｎ　Ｍｏ　Ｆｉｌｍｓ　Ｄｅｐｏｓｉｔｅｄ　ｂｙ　Ｕｓｉｎｇ　Ｐｕｌｓｅ　Ｌａｓｅｒ　ａｎｄ　Ｍａｇｎｅｔｒｏｎ　Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ　Ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ　Ｌ　Ｘｕｅ—ｃｈａｏ　，ＺＨＡＮＧ　Ｙｏｎｇ—ｂｉｎ，ＺＨＡＮＧ　Ｈｏｕ—ｌｉａｎｇ，ＲＥＮ　Ｄａ—ｐｅｎｇ，　ＬＡＮＧ　Ｄｉｎｇ～ｍｕ，ＺＨＡＮＧ　Ｙａｎ—ｚｈｉ　（Ｓｔａｔｅ　ｋｅｙ　Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ　ｏｆ　Ｓｕｒｆａｃｅ　Ｐｈｙｓｉｃｓ　ａｎｄ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｓｉｃｈｕａｎ，Ｍｉａｎｙａｎｇ，６２１９００，Ｃｈｉｎａ）　Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｔｈｅ　ＰＬＤ　ａｎｄ　ＭＳ　ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ　ｗｅｒｅ　ｅｍｐｌｏｙｅｄ　ｔｏ　ｐｒｅｐａｒｅ　ｔｈｅ　Ｍｏ　ｆｉｌｍｓ，ｏｆ　ｗｈｉｃｈ　ｔｈｅ　ｓｕｒｆａｃｅ　ｍｏｒｐｈｏｌｏｇｙ　ａｎｄ　ｃｒｏｓｓ　ｓｅｃｔｉｏｎ　ｓｔｕｃｔｕｒｅ、ｆｉｌｍ　ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ　ａｎｄ　ｓｕｒｆａｃｅ　ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ、ａｎｄ　ｆｉｌｍ　ｄｅｎｓｉｔｙ　ｗｅｒｅ　ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚｅｄ　ｂｙ　ｕｓｉｎｇ　ＳＥＭ、ｗｈｉｔｅ　ｌｉｇｈｔ　ｉｎｔｅｒｆｅｒ—　ｏｍｅｔｅｒ　ａｎｄ　ＸＲＤ　ｒｅｓｐｅｃｔｉｖｅｌｙ．Ｔｈｅ　ｒｅｓｕｌｔｓ　ｉｎｄｉｃａｔｅ　ｔｈａｔ　ｔｈｅ　ｓｕｒｆａｃｅ　ｍｏｒｐｈｏｌｏｇｙ　ａｎｄ　ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｍｏ　ｆｌｉｍｓ　ｄｅｐｏｓｉｔｅｄ　ｂｙ　ＰＬＤ　ａｒｅ　ｄｅｐｅｎｄｅｎｃｅ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｐｕｌｓｅ　ｅｎｅｒｇｙ　ａｎｄ　ｓｕｂｓｔｒａｔｅ　ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ．Ｔｈｅ　ｈｉｇｈｅｒ　ｔｈｅ　ｅｎｅｒｇｙ　ａｒｅ，ｔｈｅ　ｍｏｒｅ　ｄｅｆｅｃｔ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｍｏ　ｓｕｒｆａｃｅ．　Ａｓ　ｔｈｅ　ｅｖｅｌａｔｅｄ　ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ．Ｔｈｅ　Ｍｏ　ｆｉｌｍｓ　ｂｙ　ＭＳ　ａｒｅ　ｄｅｎｓｅ　ａｎｄ　ａｐｐｅａｒ　ｔｙｐｉｃａｌｌｙ　ｃｏｌｕｍｎａｒ　ｇｒｏｗｔｈ．Ａｌｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｆｉｌｍｓ　ｂｙ　ＰＬＤ　ａｎｄ　ＭＳ　ｈａｖｅ　ａ　ｇｏｏｄ　ｓｕｒｆａｃｅ　ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｒｑｖａｌｕｅｓ　ｌｅｓｓ　ｔｈａｎ　２０ｎｍ　ａｎｄ　ａｒｅ　ｃｏｎｓｉｓｔｅｎｔ　ｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙ　ｉｎ　ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ．Ａｌｓｏ，ｔｈｅ　ｅｘｐｒｉ—　ｍｅｎｔａｌ　ｒｅｓｕｌｔｓ　ａｒｅ　ｄｉｓｃｕｓｓｅｄ．　Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：ＰＬＤ　ａｎｄ　ＭＳ；Ｍｏ　ｆｉｌｍｓ；Ｓｕｒｆａｃｅ　ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ；Ｆｉｌｍ　ｄｅｎｓｉｔｙ　离心喷雾干燥机　单位：常州市一步干燥设备有限公司　联系人：查国才　电话：Ｏ５ｌ９—８８９０２６ｌ８　８８９０２８ｌ８　８８９００００７　Ｅ—ｍａｉｌ：ｍａｒｋｅｔ＠ｙｉｂｕ．ｃｏｒｎ　产品特点：　干燥速度快，料液经雾化后表面积大大增加，在热风气流中，瞬间就可蒸发９５％一９８％的水份，　完成干燥时间仅需数秒，特别适用于热敏性物料的干燥。　产品具有良好的均匀度、流动性和溶解性，产品纯度高，质量好。　生产过程简化，操作控制方便。对于含湿量４Ｏ％一６Ｏ％（特殊物料可达９Ｏ％）的液体能一次干燥成粉粒产品，干燥后不需　粉碎和筛选，减少生产工序，提高产品纯度。对产品粒径，松密度，水份，在一定范围内可通过改变操作条件进行调整，控制和　管理都很方便。　圈　・６　９・ｈｔｔｐ：／／　Ｊ　．ｃｍａｓｔｅｑ．Ｃｎ；ＷＷＷ．ｈｅａｔｉｎｄ．Ｃｎ