专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：蚀刻组合物专利类型：发明专利
发明人：吴柏衡,李懿,高桥秀树,荻原绘里奈,廖本男,陈韵慈,
吕志鹏
申请号：CN201910574759.3申请日：20190628公开号：CN112080279A公开日：20201215
摘要：本发明公开了蚀刻组合物。具体地，本发明涉及一种用于选择性蚀刻氮化钛硬光罩的蚀刻组合物，包括碱性化合物、螯合剂、腐蚀抑制剂以及溶剂。本发明的蚀刻组合物具有优异的蚀刻选择性，能快速清除氮化钛(TiN)及干式蚀刻残留物，不会损及low‑k层及金属导体层，且重复使用蚀刻组合物仍保有一定的氧化能力、蚀刻选择性及pH值等特性，适合用于再循环式过程中。
申请人：关东鑫林科技股份有限公司
地址：中国桃园市
国籍：CN
代理机构：北京戈程知识产权代理有限公司
更多信息请下载全文后查看
