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专利名称：一种化学机械抛光浆料及其应用专利类型：发明专利发明人：荆建芬,蔡鑫元申请号：CN200910200319.8申请日：20091211公开号：CN102093818A公开日：20110615
摘要：本发明揭示一种化学机械抛光浆料及其应用，其用于铜的化学机械抛光。该抛光浆料含有一种具有星型结构的聚合物表面活性剂，还含有研磨颗粒、络合剂、腐蚀抑制剂、氧化剂。使用本发明的浆料可以降低铜的静态腐蚀速率，改善在抛光后铜线的碟形凹陷。
申请人：安集微电子(上海)有限公司
地址：201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室
国籍：CN
代理机构：上海翰鸿律师事务所
代理人：李佳铭
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