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专利名称：密封结构专利类型：发明专利
发明人：平川裕一,上原秀和,中野隆,西本慎申请号：CN200980100022.2申请日：20090115公开号：CN101765736A公开日：20100630
摘要：提供一种密封结构，能够得到厚的耐磨膜，并由此提高密封性能。本发明的密封结构(1)具备：凸片(5)，其从旋转轴(3)的周面环状地突出，且沿轴线方向L至少设置一个；密封部件(9)，其具有与凸片(5)相对的环状密封面(19)，在密封面(19)形成有喷镀耐磨材料的耐磨层(25)，其中，在密封面(19)的轴线方向L端部具有向半径方向(K)倾斜的锥部(21)。
申请人：三菱重工业株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：岳雪兰
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