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专利名称：一种真空蒸镀源专利类型：实用新型专利发明人：景东
申请号：CN201821175508.5申请日：20180724公开号：CN2017283U公开日：20190531
摘要：本实用新型公开了一种真空蒸镀源，涉及真空蒸镀设备技术领域，其中一种真空蒸镀源包括：蒸镀腔体，其内部设置有用于放置待蒸镀基板的基板支架；坩埚，设置于所述蒸镀腔体内部，用于加热蒸镀材料使其升华或者形成蒸镀蒸汽；密封过渡装置，设置于所述坩埚的开口处；所述密封过渡装置设置有开合状态可控的隔离门；当所述隔离门打开时，所述坩埚内的蒸镀蒸汽可通过所述密封过渡装置进入蒸镀腔体；当所述隔离门关闭时，所述蒸镀腔体与所述坩埚隔离。通过本实用新型，可以将蒸镀腔体与坩埚隔离，实现仅对蒸镀腔体破真空而不影响坩埚内的蒸镀材料，或者仅对坩埚破真空而不影响蒸镀腔体内已制备的OELD的性能，从而能够减少快速破真空的成本。
申请人：昆山国显光电有限公司
地址：215300 江苏省苏州市昆山市开发区龙腾路1号4幢
国籍：CN
代理机构：北京三聚阳光知识产权代理有限公司
代理人：马永芬
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