[12]发明专利申请公布说明书
[21]申请号2006101560.6
[51]Int.CI.
B41J 2/14 (2006.01)B41J 2/16 (2006.01)C23C 16/22 (2006.01)C23C 16/56 (2006.01)
[43]公开日2007年10月17日[22]申请日2006.12.07[21]申请号2006101560.6
[30]优先权
[32]2006.04.10 [33]JP [31]2006-107832[71]申请人富士施乐株式会社
地址日本东京
[72]发明人井上洋 片冈雅树 村上裕纪
[11]公开号CN 101054019A
[74]专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司
代理人丁香兰 谢栒
C09K 3/18 (2006.01)
权利要求书 2 页 说明书 12 页 附图 6 页
[54]发明名称
液滴喷射头、其制造方法以及液滴喷射装置[57]摘要
本发明提供了一种液滴喷射头、其制造方法以及液滴喷射装置,所述液滴喷射头配备有液体喷射能量驱动装置以从喷嘴喷出液体,所述液滴喷射头包括:喷嘴板,其具有用于喷射液滴的喷嘴;设置在该喷嘴板上的四面体非晶碳膜;以及设置在该四面体非晶碳膜上的疏水膜。
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权 利 要 求 书
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1.一种液滴喷射头,所述液滴喷射头配备有液体喷射能量驱动装置以从喷嘴喷出液体,所述液滴喷射头包括:
喷嘴板,该喷嘴板具有用于喷射液滴的所述喷嘴; 设置在该喷嘴板上的四面体非晶碳膜;以及 设置在该四面体非晶碳膜上的疏水膜。
2.如权利要求1所述的液滴喷射头,其中,所述四面体非晶碳膜是通过等离子体增强化学气相沉积法或者阴极电弧法而形成的。 3.如权利要求1所述的液滴喷射头,其中,所述四面体非晶碳膜的厚度约为3纳米~80纳米。
4.如权利要求1所述的液滴喷射头,其中,所述疏水膜包含氟类树脂。
5.如权利要求4所述的液滴喷射头,其中,所述包含氟类树脂的疏水膜是通过等离子体增强化学气相生长法或沉积法而形成的。 6.如权利要求4所述的液滴喷射头,其中,所述包含氟类树脂的疏水膜是通过以下方式形成的:通过等离子体增强化学气相生长法或沉积法来形成氟类树脂的前体,然后通过加热使该氟类树脂前体聚合。 7.如权利要求1所述的液滴喷射头,其中,所述疏水膜的厚度约为1纳米~30纳米。
8.如权利要求1所述的液滴喷射头,其中,所述喷嘴板包含聚酰亚胺树脂。
9.一种液滴喷射头的制造方法,所述液滴喷射头配备有液体喷射能量驱动装置以从喷嘴喷出液体,所述制造方法包括:
在喷嘴板上形成用于喷射液滴的喷嘴之前,在该喷嘴板上形成四面体非晶碳膜;
在该四面体非晶碳膜上形成疏水膜;以及 在所述喷嘴板上形成所述喷嘴。
10.如权利要求9所述的液滴喷射头的制造方法,其中,所述四面
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体非晶碳膜是通过等离子体增强化学气相沉积法或者阴极电弧法而形成的。
11.如权利要求9所述的液滴喷射头的制造方法,其中,所述四面体非晶碳膜的厚度约为3纳米~80纳米。
12.如权利要求9所述的液滴喷射头的制造方法,其中,所述疏水膜包含氟类树脂。
13.如权利要求12所述的液滴喷射头的制造方法,其中,所述包含氟类树脂的疏水膜是通过等离子体增强化学气相生长法或沉积法而形成的。
14.如权利要求12所述的液滴喷射头的制造方法,其中,所述包含氟类树脂的疏水膜是通过以下方式而形成的:通过等离子体增强化学气相生长法或沉积法来形成氟类树脂的前体,然后通过加热使该氟类树脂前体聚合。
15.如权利要求9所述的液滴喷射头的制造方法,其中,所述疏水膜的厚度约为1纳米~30纳米。
16.如权利要求9所述的液滴喷射头的制造方法,其中,所述喷嘴板包含聚酰亚胺树脂。
17.如权利要求9所述的液滴喷射头的制造方法,其中,所述的在喷嘴板上形成喷嘴包括:用激光照射所述喷嘴板的与形成有所述疏水膜的表面相反的表面。
18.如权利要求17所述的液滴喷射头的制造方法,其中,所述激光是受激准分子激光。
19.一种液滴喷出装置,该装置配备有权利要求1~8中任一项所述的液滴喷射头。
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说 明 书
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液滴喷射头、其制造方法以及液滴喷射装置
技术领域
本发明涉及通过例如喷墨记录法等喷射液滴来进行图像记录的液滴喷射头,以及制造所述液滴喷射头的方法和配备有所述液滴喷射头的液滴喷射装置。 背景技术
通常,作为通过从多个喷嘴喷出液滴而在诸如纸张等记录介质上进行印刷的液滴喷射装置,喷墨记录装置是公知的。这些喷墨记录装置由于具有例如体积小、廉价以及安静等多种优点,已在市场上被广泛地销售。特别是,通过使用压电元件来改变压力室的压力以喷射油墨液滴的压电喷墨型记录装置或通过热能的作用来使油墨膨胀以喷射油墨液滴的热喷墨型记录装置,都具有提供高速印刷和高解像度等众多优点。 在上述喷墨型记录装置之中,在喷墨记录头中,出现一些问题,例如,当将油墨液滴从喷嘴喷出时,油墨液滴附着在喷嘴周围,或由于油墨从喷嘴溢出的上溢(overshoot)现象使油墨泄漏。因此,会发生油墨喷出方向的倾斜或者油墨的液滴直径或速度的波动,由此导致喷墨记录头的印刷性能显著地降低。鉴于这种情况,用疏水膜涂布喷嘴表面,以便防止油墨液滴附着到喷嘴周围。
在已经公开的一种结构中,在喷嘴板上形成类金刚石碳膜,且进一步在其上形成氟化类金刚石碳膜(日本专利号2,983,679)。然而,由于氟化类金刚石碳膜耐刮擦性较弱,当为防止油墨液滴附着到喷嘴周边而用刮板在喷射孔周围进行扫刮(wiping)时,会出现例如氟化类金刚石碳膜剥离或磨损等问题。
此外,粘合剂用于接合喷嘴板和安装在喷嘴板上的金属板。在将例如聚酰亚胺等聚合物树脂用于喷嘴板时,由于该粘合剂的耐油墨性低,
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该粘合剂的粘合强度会因油墨浸透到粘合剂中而降低,由此会影响整个喷头的粘合性。
为了克服上述问题,已经有人提出一种喷墨记录头,该喷墨记录头在喷嘴板上依次层叠了类金刚石碳膜和疏水膜(日本特开2004-284121号公报)。在所提出的方案中,所提供的喷墨记录头在疏水性、耐刮擦性、粘合性和耐油墨性等性能方面表现优异。
从喷嘴加工性或喷射稳定性的观点出发,将上述疏水膜的厚度制作得很薄。另一方面,缩小疏水膜的厚度会引起耐刮擦性(耐磨损性)不够等问题。类似的问题不仅出现在喷墨记录头中,也出现在一般的液滴喷射头中。 发明内容
鉴于上述情况,本发明提供了一种在喷嘴表面上设置有疏水膜的液滴喷射头和所述液滴喷射头的制造方法,所述液滴喷射头在耐刮擦性以及喷嘴加工性和喷射稳定性方面表现优异。本发明还提供了配备有该液滴喷射头的液滴喷射装置。
根据本发明的第一方面,提供了一种液滴喷射头,所述液滴喷射头配备有液体喷射能量驱动装置以从喷嘴喷出液体,所述液滴喷射头包括: 喷嘴板,该喷嘴板具有用于喷射液滴的所述喷嘴; 设置在该喷嘴板上的四面体非晶碳膜;和 设置在该四面体非晶碳膜上的疏水膜。
根据本发明的第二方面,提供了一种液滴喷射头的制造方法,所制造的液滴喷射头配备有液体喷射能量驱动装置以从喷嘴喷出液体,所述制造方法包括:
在用于喷射液滴的所述喷嘴形成之前,在喷嘴板上形成四面体非晶碳膜;
在该四面体非晶碳膜上形成疏水膜;以及 在所述喷嘴板上形成所述喷嘴。
在本发明的液滴喷射头的制造方法中,通过在疏水膜的下层设置作
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为具有高硬度的薄膜的四面体非晶碳膜,即使减小了疏水膜的厚度,也可以获得喷嘴加工性、喷射稳定性、耐刮擦性得到改善的液滴喷射头。 根据本发明的第三方面,提供了一种配备有本发明的上述液滴喷射头的液滴喷出装置。
通过配备本发明的上述液滴喷射头,本发明的液滴喷出装置可以长期稳定地喷射液滴。 附图说明
将根据下述附图来详细说明本发明的示例性实施方案,其中: 图1是显示本发明的实施方案所述的喷墨记录装置的构造示意图; 图2是显示本发明的实施方案所述的喷墨记录单元的记录头配置的示意图;
图3是显示实施方案所述的喷墨记录单元的印刷区域的示意图; 图4是显示本发明的实施方案所述的喷墨记录头的构造的截面图; 图5A至5F是显示本发明的实施方案所述的喷墨记录头的制造流程的流程图;以及
图6是显示ta-C膜的膜厚度和针孔密度之间的关系的曲线图。 具体实施方式
以下将参照附图描述本发明。在这里,在所有附图中将具有基本上相同功能的部件用相同符号表示,并且在某些情况下有可能会省略对它们的重复叙述。
图1是显示本发明的实施方案所述的喷墨记录装置的构造示意图。图2是显示本发明的实施方案所述的喷墨记录单元的记录头配置的示意图。图3是显示实施方案所述的喷墨记录单元的印刷区域的示意图。 参照图1,该实施方案所述的喷墨记录装置10(液滴喷出装置)一般由下述部分组成:用于送出纸张的纸张供给部分12;用于控制纸张的位置的配准调整(registration adjustment)部分14;用于通过喷出油墨液滴(液滴)在记录介质P上形成图像的记录头部分16;配备有用于记录
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头16的维护的维护部分18的记录部分20;用于进行记录头16的维护的维护部分18;以及用于将承载有在记录部分20中形成的图像的纸张排出的出纸部分22。
纸张供给部分12由下述部件组成:层叠和堆放纸张的堆纸器24,以及用于将纸张逐张地从堆纸器24输送到配准调整部分14的输送装置26。
配准调整部分14配备有环状形成(loop formation)部分28和用于控制纸张的位置的导向部件29。使纸张通过该部件,利用该纸张的弹性来矫正纸张的歪斜且控制输送的时机,然后,使纸张进入到记录部分20中。
在出纸部分22中,经由出纸带23将承载有在记录部分20中形成的图像的纸张存放到托盘25中。
在记录头16和维护部分18之间,构造用于输送记录介质P的纸张传送装置。通过星轮17和输送辊19将记录介质P夹紧以连续地(不停地)进行输送。然后,将油墨液滴从记录头部分16喷射到纸张上,从而在纸张上形成图像。
维护部分18由配置在喷墨记录单元30(记录头32)对面的维护装置21组成,可以对喷墨记录单元30(记录头32)进行处理,例如覆盖、扫刮,以及虚拟喷射(dummy jetting)和抽真空。
参照图2,每个喷墨记录单元30均配备有在与纸张输送方向垂直的方向上布置的多个喷墨记录头32。多个喷嘴33在喷墨记录头32上以矩阵状形成。通过从喷嘴33将油墨液滴喷到在纸张传送装置中连续输送的记录介质P上,在记录介质P上形成图像。此处,例如分别对应用于记录所谓全色图像的黄色、品红色、青色和黑色的各种颜色,设置至少四个喷墨记录单元30。
参照图3,设定每个喷墨记录单元30的喷嘴33的印刷区域宽度,使其宽于设想通过该喷墨记录装置10在其上记录图像的记录介质P的最大纸张宽度PW,由此,无需在纸张宽度方向上移动喷墨记录单元30就可以横跨记录介质P的全部宽度记录图像(即:所谓全宽阵列(FWA))。
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在这里,印刷区域以除位于两端的不进行印刷的空白页边之外的最大记录区域为基准,但是一般设定印刷区域比需要进行印刷的最大纸张宽度PW大。这是因为,有可能存在以与输送方向成特定角度倾斜(歪斜)的方式输送的纸张,以及存在对无页边空白的印刷的大量需求。 随后,在具有上述结构的喷墨记录装置10中,将详细叙述喷墨记录头32。图4是显示本发明的实施方案所述的喷墨记录头的构造的截面图。图5A至5F是显示本发明的实施方案所述的喷墨记录头的制造流程的流程图。
参照图4,将保护板34、喷嘴板36、池板38、连通孔板40和42、压力室板44和振动板46层叠在适当的位置并通过热熔或使用粘合剂进行粘合,由此制造喷墨记录头32。然后,在喷嘴板36上的保护板34的表面上依次形成四面体非晶碳(在下文中,称为ta-C)膜48和疏水膜49。 将用于喷墨的喷嘴33形成在喷嘴板36中。在接合喷嘴板36的保护板34中,在喷嘴33的周围形成梯级孔52。借助于该梯级孔52,使喷嘴33周围的喷嘴表面54以相对于保护板34的板表面56(保护板34的涂布有ta-C膜48和疏水膜49的表面)呈凹状的方式后退。这样,可以避免在印刷时往上移动的记录介质P与板表面56接触,由此防止喷嘴33周围的疏水膜49被损坏。
疏水膜49用于防止油墨附着到喷嘴33周围。得益于该疏水膜49的存在,从喷嘴33喷出的油墨液滴可以恒定地垂直喷向板表面56。 然而,当疏水膜49的厚度增加时,喷嘴加工性和喷射稳定性降低。另一方面,当疏水膜49的厚度减少时,即使喷嘴加工性和喷射稳定性得到改善,耐刮擦性也会降低。
鉴于此,在疏水膜49的下层设置ta-C膜48,以利于减少疏水膜49的厚度,这样可用来改善喷嘴加工性和喷射稳定性,同时,也改善了耐刮擦性。
另外,参照图4,在池板38中形成与喷嘴33相通的连通孔58。同样,在连通孔板40和42中分别形成连通孔60和62。喷嘴33、连通孔58与连通孔60和62在喷嘴板36和连通孔板40和42层叠的状态下互相
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连通,并且与形成在压力室板44中的压力室连接。
另一方面,在池板38中形成油墨池66,从油墨供给孔(未示出)供给的油墨贮存在该处。同样,在连通孔板40和42中分别形成供给孔68和70,使得与油墨池66相通。油墨池66、供给孔68和70以及压力室在池板38、连通孔板40和42以及压力室板44层叠的状态下互相连通。在振动板46上(在与接合压力室板44的表面相对的表面上),起压力发生器作用的单板型压电元件50安装在压力室的上方,且从柔性布线基板(未示出)将驱动电压施加到压电元件50。
用于从喷嘴喷出液体的液滴喷射能量装置不仅限于上述的压电元件50,例如,也可以利用应用加热元件(电热转换元件)的热系统。 在上述喷墨记录头32中,形成了油墨的流道,该流道从油墨池66起,连续贯穿所述供给孔68和70、压力室、连通孔60和62、连通孔58以及喷嘴33。将从油墨供给孔(未示出)供给且贮存在油墨池66中的油墨经由供给孔68和70引入以充填到压力室内。当向压电元件50施加驱动电压时,振动板46与压电元件50一起弯曲而变形,膨胀或压缩压力室。这引起压力室的体积改变,从而在压力室中产生压力波。通过该压力波的作用,使油墨运动,由此从喷嘴33喷出油墨液滴。 接着,将叙述制造喷墨记录头32的方法。
首先,参照图5A,将其中形成喷嘴33之前的板形的喷嘴板36和其中形成梯级孔52之前的板形的保护板34通过热熔接合在一起。通过无粘合剂的热熔接合喷嘴板36和保护板34这两者时,因为不需要调节两者的位置,所以它们能够高效地接合。对于喷嘴板36,可以使用硅片、SUS(钢铁用不锈钢)板或合成树脂板等等,优选使用机械强度、耐化学性和薄膜化优秀的合成树脂。在本实施方案中,将聚酰亚胺用于喷嘴板36。与使用传统SUS的情况比较,使用聚酰亚胺的有利之处在于可以更容易地加工喷嘴,并且当对油墨施加喷射能量时,可借助阻尼效应来抑制互相干扰。对于保护板34,可以使用金属板、树脂膜、液晶膜或树脂板等等。在本实施方案中,将SUS用于保护板34。
随后,参照图5B,在板形的保护板34中形成梯级孔52。在形成梯
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级孔52时,首先,形成抗蚀剂层,通过掩摸在抗蚀剂层上形成图案后,去除抗蚀剂层中不需要的部分,以形成与梯级孔52的位置对应的孔部分。然后,通过湿法蚀刻在保护板34上形成梯级孔52的图案,然后除去抗蚀剂层。该梯级孔52的深度设定为例如约5微米到20微米。
然后,参照图5C,在保护板34的表面上即喷墨记录头32(见图1)的喷出侧表面上,形成ta-C膜48,其后,形成疏水膜49。
ta-C(四面体非晶碳)膜48由具有高硬度和高杨氏模量的含碳物质制成,其硬度高于传统的类金刚石碳,因而,在防止由刮或擦引起的刮痕方面非常出众。
对于形成ta-C膜48的方法没有特别的,可以应用等离子体增强化学气相沉积法或阴极电弧法。阴极电弧法是通过电弧放电从碳(石墨)提取C来形成膜的方法。通过这种阴极电弧法形成的膜具有的性能在例如“International Conference on Micromechatronics for Information andPrecision Equipment”(东京,1997年7月20日~23日,第357-362页)中已有描述,而且,与通过例如反应溅射法或ECR-CVD(电子回旋共振-化学气相沉积)法等其他方法形成的DLC(类金刚石碳)膜比较,通过阴极电弧法形成的膜的有利之处在于具有较强的sp3键、较高的硬度和较低的摩擦系数。
ta-C膜48的典型特性值见表1。为了进行比较,天然金刚石层、类金刚石碳(DLC)层和挠性类金刚石碳(FDLC)层的典型特性值也列于表1。
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表1
天然金刚石
膜厚度成膜温度成膜速率(nm/s)原料
----金刚石结构
晶体结构
sp3
硬度(GPa)杨氏模量(GPa)密度(g/cm3)摩擦系数折射率电阻
热传导率(W/mk)
1009103.50.12.4
10e13~10e162000
sp3 50%以下10~50280~3001.7~2.20.142.4
10e6~10e1430
中等中等中等中等2.410e6~10e9中等
DLC1.580℃以上0.5烃类非晶态
中等
sp3 85%以上60~90600~9003.0~3.20.12.410e6~10e96
FDLC中等中等中等烃类
ta-C1.0以下20℃~80℃1.5固体碳非晶态
如表1所示,与DLC和FDLC层比较,ta-C膜48具有较低的成膜温度,因而抑制了由于成膜引起的喷嘴板反向弯曲(retroflection)或保护板和喷嘴板之间的剥离。表1还显示出ta-C膜的密度很高,因而增强了对相邻膜的粘合性,从而使得难以将ta-C膜从相邻膜剥离。
ta-C膜48的厚度优选为约3纳米~80纳米,更优选为约10纳米~50纳米,进一步优选为约20纳米~40纳米。当厚度低于所述范围时,可能会出现膜的缺陷或耐刮擦性降低。另一方面,当膜厚度超过所述范围时,喷嘴加工性或喷射稳定性可能会降低。
图6表示了ta-C膜48的膜厚度和针孔密度之间的关系。为了进行比较,根据DLC膜产生的同一关系也示于图6中。如图所示,与DLC膜比较,ta-C膜48可以形成得更薄而且硬度更高。
另一方面,疏水膜49可以是例如氟类疏水膜、硅类疏水膜、等离子体聚合的保护膜或者聚四氟乙烯(PTFE)-镍共析镀膜。在这些之中,优选的是具有高疏水性的氟类疏水膜,其构成材料的优选实例包括:例如,氟类树脂,诸如四氟乙烯-六氟丙烯共聚物树脂(FEP)、聚四氟乙烯树脂(PTFE)、四氟乙烯-全氟烷氧基乙烯共聚物树脂(PFA)、聚偏二氟乙烯树脂或聚氟乙烯树脂。特别是11优选聚四氟乙烯树脂(PTFE)和四氟乙烯-全氟烷氧基乙烯共聚物树脂(PFA)。
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氟类疏水膜可以按照等离子体增强化学气相生长法或者沉积法来形成。此外,氟类疏水膜也可以通过用上述方法形成氟类树脂的前体,然后以加热使该氟类树脂前体聚合而形成。当然,氟类疏水膜也可以通过旋转涂布法或喷雾法来形成。
疏水膜49的厚度优选为约1纳米~30纳米,更优选为约5纳米~20纳米,进一步优选为约10纳米~15纳米。当厚度低于所述范围时,可能会出现膜的缺陷或耐刮擦性降低。另一方面,当膜厚度超过所述范围时,喷嘴加工性或喷射稳定性可能会降低。
由于ta-C膜48和疏水膜49可以按照上述方法形成,因此,ta-C膜48和疏水膜49不仅可以在喷嘴板36上的保护板34的表面上以均匀厚度形成,也可以在梯级孔52(包括底部)内以均匀厚度形成。
接着,参照图5D,将池板38通过热熔接合到喷嘴板36的背面。通过进行所述热熔,可以不使用粘合剂来进行接合。在该热熔中,热处理一般在300~360℃进行。在本实施方案中,所述热熔通过在330℃的热处理来进行。在这里,本实施方案中,所述接合是通过所述的热熔来进行的,但是,所述接合也可以用粘合剂来进行。在后者情况下,例如热处理是在200℃进行。
接下来,参照图5E,通过用受激准分子激光(未示出)从池板38的背面(形成疏水膜49的一面)进行钻孔,在喷嘴板36中形成喷嘴33。所形成的该喷嘴33的孔径小于梯级孔52的孔径。在本实施方案中,喷嘴33的孔径设定为约25微米,梯级孔52的孔径设定为100微米~400微米。按预定的模式形成多个这样的喷嘴33和梯级孔52。
在这里,本实施方案中,使用受激准分子激光形成喷嘴,但是,也可以使用其它手段,例如,YAG(钇铝石榴石)三次谐波、YAG四次谐波、蚀刻或冲孔等。在这里,考虑到加工性,最适合使用受激准分子激光。 由此制得第一层叠板。然后,如图5F所示,第二层叠板可通过以下单独的步骤来制备:预先将连通孔板40和42与压力室板44接合,进一步在其上接合振动板46,以覆盖压力室板44中的开口,由此制备第二层叠板。然后用这两个层叠板的连通孔板40和池板38互相面对面的方式
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将第一层叠板和第二层叠板接合在一起。 通过这种方式,可制得喷墨记录头32。
如上所述,在本实施方案中,依次将作为高硬度的薄膜的ta-C膜48以及所述疏水膜49隔着保护板34而形成在喷墨记录头32中的喷嘴板36上。然而,在喷嘴的周围,ta-C膜48直接形成在喷嘴板上,并在ta-C膜48上形成疏水膜49。
通过在疏水膜49的下层设置ta-C膜48,由于减少了疏水膜49的厚度,因此可改善喷嘴加工性和喷射稳定性,同时,也改善了耐刮擦性。 因此,配备有所述记录头32的喷墨记录装置10可以长期稳定地喷墨。
此处,在本实施方案中,已经叙述了与纸宽度对应的FWA的例子。然而,本发明的喷墨记录头并不仅限于此,也可以适用于具有主扫描机构和副扫描机构的部分宽度阵列(PWA)的装置。
同样,在本实施方案中,将图像(包括字符)记录在记录介质P上。然而,本发明的液滴喷射头和液滴喷射装置并不仅限于此。也就是说,所述记录介质不仅限于纸,所喷出的液体也不限于油墨。例如,本发明一般也可以适用于作为工业用途的液滴喷射头和液滴喷射装置,例如通过将油墨喷到聚合物膜或玻璃上来制备显示设备的滤色器,以及通过将熔融状态的焊料喷到基板上来形成电子部件安装用凸点(bump)。 实施例
在下文中,显示了上述实施方案中用于评价的具有在喷嘴板36上依次形成的ta-C膜48和疏水膜49的实施例。为了与这些实施例比较,也显示了比较例。 实施例1
首先,使用FCVA(过滤阴极真空电弧)设备(由岛津制作所株式会社制造)在聚酰亚胺膜(喷嘴板)的表面上形成厚度为3纳米的ta-C膜。
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其次,通过使用沉积方法形成氟类疏水膜,然后通过加热使该膜聚合,由此在ta-C膜上形成厚度为10纳米的疏水膜。
其后,从与形成的疏水膜的一侧相反的一侧照射受激准分子激光(波长:248纳米),以形成直径为25微米的喷嘴。 这样,获得了喷嘴板36。 实施例2~5
根据表2,除了改变ta-C膜和疏水膜的厚度之外,用与实施例1相同的方法获得喷嘴板。 比较例1
首先,使用ECR-CVD设备在聚酰亚胺膜(喷嘴板)的表面上形成厚度为3纳米的DLC膜。
其次,通过使用沉积方法形成氟类疏水膜,然后通过加热使该膜聚合,从而在DLC膜上形成厚度为10纳米的疏水膜。
其后,从与形成的疏水膜的一侧相反的一侧照射受激准分子激光(波长:248纳米),以形成直径为25微米的喷嘴。 这样,获得了喷嘴板。 比较例2
首先,使用溅射方法在聚酰亚胺膜(喷嘴板)的表面上形成厚度为100纳米的SiO2膜。
接着,通过使用沉积方法形成氟类疏水膜,然后通过加热使该膜聚合,由此在SiO2膜上形成厚度为20纳米的疏水膜。
其后,从与形成的疏水膜的一侧相反的一侧照射受激准分子激光(波长:248纳米),以形成直径为25微米的喷嘴。 这样,获得了喷嘴板。 评价
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通过使用获得的喷嘴板,按照上述实施方案制备记录头,然后评价喷射稳定性和耐刮擦性。另外,也评价在加工喷嘴时的喷嘴加工性。评价结果列于表2。
对喷射稳定性评价如下。测定在连续喷射时液滴的量,将液滴的量基本上没有波动的情况评价为A,将在20滴的量中有很大程度波动的情况评价为C,而在A和C之间的情况则评价为B。 耐刮擦性
对耐刮擦性评价如下。将获得的样品装在由富士施乐株式会社制造的刮擦测试装置中,当用橡胶刮板刮擦疏水膜的表面5000次时,将基本没有刮痕的情况评价为A,将许多刮痕的情况评价为C,而在A和C之间的情况则评价为B。 喷嘴加工性
对喷嘴加工性评价如下。当用受激准分子激光加工喷嘴时,将具有良好的加工性、喷嘴孔均匀形成的情况评价为A,将加工性低、喷嘴孔不能均匀形成的情况评价为C,而在A和C之间的情况则评价为B。 表2
喷嘴板底涂膜的
材料/厚度
疏水膜厚度
评价喷射稳定性
喷嘴
耐刮擦性
加工性
实施例1实施例2实施例3实施例4实施例5比较例1比较例2
ta-C/3纳米ta-C/20纳米ta-C/80纳米ta-C/1纳米ta-C/110纳米DLC/3纳米SiO2/110纳米
10纳米20纳米10纳米10纳米10纳米10纳米20纳米
AAAABAC
AAABACA
AAAABAC
如表2所示,与比较例相比较,实施例的喷射稳定性、耐刮擦性和喷嘴加工性均表现优异。表2还显示,优选以预定的膜厚度形成ta-C膜和疏水膜。
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