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专利名称：一种专用于生产磁性传感器芯片的磁控溅射设备专利类型：实用新型专利发明人：余涛,杨华,张文旭,陈忠志申请号：CN202021438020.4申请日：20200721公开号：CN2124951U公开日：20210406
摘要：本实用新型涉及一种专用于生产磁性传感器芯片的磁控溅射设备，该溅射设备包括晶圆传递室，在晶圆传递室设置晶圆传递机械手，在晶圆传递室的出口端连接若干溅射室且溅射室之间彼此，在晶圆传递室进口端连接进样室，进样室进口端连接SMIF装置，本实用新型通过增加SMIF功能区、进样室功能区、晶圆传递室晶圆区，单材料单溅射室功能区这种模式，能够极大的提高生产效率，使磁控溅射设备从原先的10h抽真空时间缩短至10min抽真空时间，并且由于单材料单溅射室，避免了不同材料间的相互污染，保证了不同层薄膜材料的纯度，极大的提升了薄膜的性能，提高了可靠性和稳定性，采用多边形的晶圆传递室结构，极大的提升了设备的可扩展性，使设备能够满足多种材料的生长需求。
申请人：贵州雅光电子科技股份有限公司
地址：550081 贵州省贵阳市高新区金阳园区都匀路12号
国籍：CN
代理机构：贵阳中新专利商标事务所
代理人：刘楠
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