光学器件的制备方法

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN201010565702.6 （22）申请日 2010.11.26 （71）申请人 佳能株式会社

地址 日本东京

（10）申请公布号 CN102081172A

（43）申请公布日 2011.06.01

（72）发明人 寺西康治;福井慎次;坂野溪帅

（74）专利代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人 李帆

（51）Int.CI

G02B1/11; G02B5/02;

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

光学器件的制备方法

（57）摘要

以低成本制备包括低折射率膜的光学器

件。为了实现该目的，在包括将低折射率膜和高折射率膜交替层叠的多层膜的光学器件的制备方法中，通过使用靶单元的溅射沉积系统在基材上形成多孔膜。将该多孔膜浸入液体中以降低该膜的折射率。通过以简单的步骤形成折射率比以往使用的膜低的低折射率膜，能够以低成本得到高

质量光学器件。

法律状态

法律状态公告日

2011-06-01 2011-07-27 2014-07-09

公开

实质审查的生效 授权

法律状态信息

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说明书

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