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钨硅靶材的制造方法[发明专利]

来源:微智科技网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:钨硅靶材的制造方法专利类型:发明专利

发明人:姚力军,相原俊夫,大岩一彦,潘杰,王学泽,张涛申请号:CN201410668721.X申请日:20141120公开号:CN105671483A公开日:20160615

摘要:一种钨硅靶材的制造方法,包括:提供钨粉和硅粉;利用混粉工艺将所述钨粉和硅粉混合均匀,以形成混合粉末;利用冷压工艺对所述混合粉末进行致密化处理,以形成钨硅靶材坯料;将所述钨硅靶材坯料置于包套内,利用热等静压工艺对所述包套内的钨硅靶材坯料进行致密化处理;去除所述包套,得到钨硅靶材。本发明的技术方案能够使形成的钨硅靶材具有较高的致密度、以及均匀的内部组织结构。

申请人:宁波江丰电子材料股份有限公司

地址:315400 浙江省宁波市余姚市名邦科技工业园区安山路198号

国籍:CN

代理机构:北京集佳知识产权代理有限公司

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