专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：利用锡金属靶形成锡氧化物层的方法专利类型：发明专利发明人：车国麟,任志淳申请号：CN201580002767.0申请日：20151125公开号：CN106661714A公开日：20170510
摘要：本发明涉及利用锡金属靶在玻璃衬底上形成锡氧化物层的利用锡金属靶形成锡氧化物层的方法。本发明提供利用锡金属靶形成锡氧化物层的方法，该方法包括以下步骤：通过利用锡金属靶的溅射在玻璃衬底上形成锡氧化物缓冲层(SnO)；以及通过利用锡金属靶的溅射在锡氧化物缓冲层上形成锡氧化物半导体层(SnO)(0
申请人：瑞福龙株式会社
地址：韩国首尔
国籍：KR
代理机构：北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
更多信息请下载全文后查看
