科技经济与资源环境科技经济导刊20166期2高级氧化技术处理印染废水单丹谨(沈阳化工大学环境与安全工程学院辽宁沈阳111042)要:印染废水的水量大色度高成分复杂随着排放标准的日益严格传统的处理工艺已无法满A0玛足排放标准介绍了几种近年来应用较为广泛的高级氧化新技术(:;;关键词印染废水危害高级氧化技术中图分类号:061162文献标识码:C文章编号:2096一2995(2026)26一0088一02摘、、。印染工业是世界上各工业之中废水排放量最大的工业之一,且其产生的复杂有机污染物给环境带来了巨大的危害和破坏l[]。高浓度的印染废水排人环境中会严重污染环境,会对生态和人体的健康造成威胁。传统的处理工艺很难使废水中有机物降解彻底,高级氧化法(深度氧化法,简称AOPS),是在对传统氧化法进行改革创新的基础上,以反应过程中产生大量活性极强的强氧化性自由基(如·OH等)为特点,分解废水中污染物的一系列新型氧化处理技术。·OH几乎能没有选择性地与废水中的有机污染物反应并能快速提高污染物的降解速率,降解也更加彻底。1Fenton氧化法F即otn氧化法是发现最早的高级氧化法。14年英国人HJHF即otn首次发现H202和FeZ+的具有极强的氧化性,能氧化多种有机物质。H202与FeZ+组成的混合体系称为标准F即ton试剂,其中FeZ+主要是作为同质催化剂,而H202则起氧化作用][2。Fenotn法具有设备费用低、操作简单、反应快速等优点。2湿式氧化法湿式催化氧化法是在高温(125℃一320℃)、高压(05一20MaP)下,向反应体系中加人催化剂和氧化剂,使废水中的有机物氧化分解成C02、NZ、502、H20等无机物。该方法适用于处理高浓度难降解有机废水,对COD及NH3一N的去除率可达到9%以上,且不需要进行后续处理。因要在较高的温度和压力下进行反应,故其在实际工业上的应用受到一定,处理成本较高。3臭氧氧化法臭氧具有氧化能力强,脱色效果好,能除臭、杀菌,无二次污染等优点,但由于臭氧本身不稳定且易分解,因此要现场制造,导致其设备费用高、氧化能力有限。在实际处理中一般与其它技术联用可以提高废水的降解率,如03/H202、03/UV、03/催化剂、03/US等。4超临界水氧化法超临界水氧化法(SCWo)是利用了水在超临近状态下较常规水具有较低的介电常数和扩散传递性能,能使得有机物与空气、氧气、氮气等气体混溶形成均相反应体系,可将难降解的复杂有机物高效快速地氧化分解生成无毒小分子无机物。该法反应快速、降解彻底、无二次污染物生成,可以适用于各种有毒物质、废水废物的处理,但其高温高压的操作条件对设备的材质要求严格。5超声波氧化法超声波氧化法的原理是废水在一定振荡频率的激烈一88振荡作用下,废水中产生了空化泡,在随后的声波正压相的作用下,空化泡迅速破裂,引起气泡内蒸汽相的绝热压缩,产生瞬时的高温高压使废水中的有机污染物浓度降低。该方法降解条件温和、速度快、适用范围广,但与其它水处理技术相比,超声波氧化法处理水量少、操作费用高,目前大多数处于实验室研究阶段。6光催化氧化法光催化氧化法是利用某些物质在紫外光的条件下产生氧化性极强的自由基,从而使得染料分子得到降解成低分子中间产物,最终生成简单无机分子。具有反应条件温和(常温、常压)、氧化能力强、反应速度快和污染物降解彻底等优点。但光催化氧化法应用于实际工业废水处理中还面临诸多问题,如光量子效率低、固体催化剂的回收等,对高浓度废水处理效果不理想。目前关于光催化氧化处理染料废水的研究主要集中于半导体光催化剂的制备与改性研究上。7电化学氧化法电化学氧化法处理印染废水是指常温常压下,在特定电解槽内外加电场,在电极表面产生自由基而使得有机物被氧化分解,实现对废水中污染物的去除。与其它工艺相比,电化学法的氧化反应在电极材料与有机大分子之间反应产生·OH,不需要另添加氧化剂;反应条件温和;设备占地面积小,成本低;且电极材料可以重复使用,避免造成浪费。但其同时也具有能耗大,有机物分解不彻底等缺点。在电化学氧化法处理印染废水的体系中,电极材料最能直接影响废水中污染物的降解效率,因此高性能的电极材料研究成为当前的主要研究重占8结论随着社会的不断发展,人们的环保意识随之提高,因此寻求更加先进的技术对印染废水进行深度处理变得由为重要。AOPS作为最先进的处理技术,被广泛应用到实际印染废水的处理中。参考文献:【1〕Petriek人Soares;TamaFCVSlVia;DiegoR入!ane以iInsightsintore冠eotton一textlie即eingwastewatertreatnrentusingsolaradvaneedoxidationProeesses口〕Environnrentalseieneeandpollut`onresearehInternatlon冠201421(2):32一45!2〕HJHFentonOxi由tionoftartarieaeidinthePreseneeofion口〕JChenrSeo14(65):9一910
