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专利名称：防泄漏式真空电子束熔炼装置专利类型：发明专利
发明人：赵国华,慈连鳌,许,高学林,罗立平,张晓卫申请号：CN201710692688.8申请日：20170814公开号：CN107299231A公开日：20171027
摘要：本发明公开了一种防泄漏式真空电子束熔炼装置，包括真空室，以及无焊缝式水冷坩埚；所述的无焊缝式水冷坩埚包括，坩埚和法兰板，所述的真空室开设有安装孔，所述的无焊缝式水冷坩埚通过法兰板固定设置在所述的安装孔处。本发明的水冷坩埚结合热源及真空容器，用于真空金属冶炼提纯的工艺技术，提高了安全性和可靠性。尤其是安装式机构，将进出水口安置在真空室外侧，真空室内部无焊缝，无加工面，即使漏水也会流向真空室外，保证了安全性能。
申请人：核工业理化工程研究院,沈阳腾鳌真空技术有限公司
地址：300180 天津市河东区津塘路168号
国籍：CN
代理机构：天津创智天诚知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：周庆路
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