Stability of SilylethersOSiR3OH2 equiv TBAFTHF, 22.5 °CSiR3 Half-lifeTBS 76minTIPS 137min17
Stability of SilylethersTES的水解稳定性较TMS好,但比TSDMS差。Merck公司在FK-506的合成中用这个条件除去TES而保留其它硅醚不动18
Stability of SilylethersHF-CH3CN在低温下对伯醇和仲醇的TBS醚有一定的选择性19
Formation of Silylethers
思考:
TBDPS醚不能保护叔醇,它对伯醇和仲醇的区分选择性优于TBDMS20
1, 2-Migration
OTBDPSOHMeK2CO3MeOH100%OHMeOTBDPSMulzer, J.; Schollhorn, B. Angew. Chem., Int. Ed. Eng. 1990, 29, 431-432.Bu3SnOTBSOHOMeMeOH KHMDSTHF, -78 °C 94%Bu3SnOTBSOMeMeCalter, M. A. Ph. D. Thesis, Harvard University, 1993.21
醇羟基的保护-乙酸酯
(MeCO)2O or MeCOClROHROAcOH-稳定性不够,对反应条件敏感,不太常用
22
醇羟基的保护-苯甲酸酯
PhCOClROHROCOPhOH-稳定性较好,有一定的应用范围
23
二醇羟基的保护-缩酮(醛)
PhCHOor acetoneOHor 2,2dimethoxypropaneOR1OHAcidOR224
二醇羟基的保护-碳酸环酯
25
羰基的保护
羰基的保护通常是通过形成缩酮(醛)或者其等价物而实现的。
R1R1R3OR2R2R4R3, R4 = OMe, OEt ketal (acetal)R3, R4 = SMe, SEt dithioketalR3=SMe, SEt; R4 = OMe, OEt oxothioketalR3=OH, R4 = CN cyanohydrinR3=NH2, R4 = CN aminonitrile26
羰基的保护
R1R1R3R2OR2R4R3, R4= -O(CH2)2O- dioxolane R3, R4= -O(CH32)2N- oxazolidine R, R4= -N(CH2)2N- imidazolidineR3, R4= -S(CH2)2N- thiozolidineR3, R4= -S(CH2)2S- dithiolaneR3, R4= -S(CH2)3S- dithiane27
羰基的保护
羰基保护时的反应活性顺序
醛基〉链状酮羰基~环己酮〉环戊酮〉不饱和酮〉芳基酮
基本上和格式试剂与羰基化合物的反应顺序一致
28
羰基的保护
二甲醇缩酮的形成和水解
R1MeOH, H+OR1OMeR22M HR22SO4OMe该缩酮在中性和碱性条件下稳定。
29
羰基的保护
乙二醇缩酮的形成和水解(比二甲醇缩酮稳定)
R1HOCH2CH2OH, H+R1OR2O2M H2SO4R2O思考:
OHN?HNOO30
羰基的保护
S, S-acetals 的形成和除去
该缩酮在中性和碱性条件下稳定。
31
羰基的保护
形成丙二硫醇缩醛(1,3-dithiane)
R1HS(CH2)3SH, BF3R1SBuLiR1SOHHSLiS该缩醛能和BuLi反应,醛由亲电试剂变为亲核实剂。
32
羰基的保护
形成硫氧缩酮(oxothiaketal)
R1HS(CH2)2OH, ZnCl2OR1SR2Raney NiR2O该缩酮在中性和碱性条件下稳定。
在酸性条件下有相当的稳定性,只有raney Ni 时,保护基才被除去。
33
羰基的保护OOCOCH3HSCH2CH2OHZnCl2ABSOorSOCOCH3OSHOALiAlH4Raney NiHOO34
羧酸的保护
传统的酯化方法在稳定性,选择性及经济性等指标下可以有较宽的选择:
由酸和醇直接制备酰氯或酸酐与醇的反应
羧酸盐与卤代烷烃之间的反应
羧酸与烯烃的反应,特别是叔丁酯的制备
羧酸与重氮烷烃的反应
35
羧酸的保护
1. 甲酯的合成
甲酯的优点是简单,位阻小,核磁共振谱简单,易于制备
甲酯的脱除通常在MeOH或THF与水的混合溶剂中进行,使用KOH等无机碱来完成。
36
羧酸的保护
2. 叔丁基酯
Formation
1. Isobutylene, coned. H2SO4, Et2O, 25 oC,2. Isobutylene, CH2Cl2, BF3.Et2O, -78 oC-rt.
3. (COCl)2, benzene, DMF; t-BuOH, Et3N, CH2Cl2.
Cleavage
1. HCO2H, rt.
2. CF3COOH, CH2C12.
37
羧酸的保护
例子:
相当便宜的工艺流程
常见的叔丁基酯的除去反应在酸性条件下进行,分解产生的碳正离子具有很强亲电性,可以与很多官能团发生反应,此时需要加入PhSMe或Et3SiH等清除产生的正离子。38
羧酸的保护
3. 形成苄酯
RCO2H + BnOHRCO2BnRCO2Na + BnXRCO2Bn苄酯通常用氢化的方法脱去。
39
羧酸的保护
4. 9-Fluorenylmethyl (Fm) Ester
OHO2CRRCO2H+DCC, DMAPor trans esterificationCleavage:either with diethylamine or piperidine in CH2Cl2at rt for 2 h. 氢化条件下,缓慢分解。
40
羧酸的保护
5. Methoxymethyl (MOM) Ester:
Et3N, DMFRCO2H+MOMClRCO2MOMCleavage:
MgBr2, Et2O or AlCl3, PhNMe2
41
羧酸的保护
5. Methoxyethoymethyl (MEM) Ester:
42
氨基的保护
1.N-酰基型氨基保护基
叔丁氧羰基(BOC)
FormationCleavage
(BOC)2O, NaOH, H2O.
1.3 M HCl, EtOAc.2.AcCl, MeOH.
3.CF3COOH, CH2Cl2.
43
氨基的保护
1.N-酰基型氨基保护基
Benzyl Carbamate: PhCH2OC(O)NR2
FormationBnOCOCl (CbzCl),K2CO3.
Cleavage
1.Pd/C, H2
44
氨基的保护
1.N-酰基型氨基保护基
Methyl and Ethyl Carbamate: CH3OC(O)NR2
Formation
CH3OCOCl,K2CO3.
Cleavage
1.KOH, H2.NH2O, ethylene glycol.2NH2, KOH.
45
氨基的保护
1.N-酰基型氨基保护基
9-Fluorenylmethyl Carbamate (Fmoc-NR2)
Formation
1. Fmoc-Cl, NaHCO3, aq. Dioxane。2. Fmoc-N,, NaHCO3, aq. Dioxane。
Cleavage
46
氨基的保护
2. Benzyl protecting groupFormation
PhCH2X, K2CO3, DMF
Cleavage
Pd/C, H2.
47
氨基的保护
3. N-磺酰基衍生物:最稳定的保护形式
吲哚和吡咯的保护用强碱夺取N上的质子,与磺酰氯反应;它的脱除反应相当较温和。
48
氨基的保护
3. N-磺酰基衍生物:最稳定的保护形式
脂肪伯胺和仲胺的磺酰基衍生物,存在容易保护,去保护难的问题,因此一定程度上也影响了它的使用面。
脱保护
49