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专利名称：铜化合物、薄膜形成用原料及薄膜的制造方法专利类型：发明专利
发明人：吉野智晴,远津正挥,樱井淳,西田章浩,冈部诚申请号：CN201580024971.2申请日：20150408公开号：CN1058849A公开日：20170222
摘要：本发明的铜化合物由下述通式(I)表示。通式(I)中，R～R各自地表示碳数1～5的直链或支链烷基，其中，R和R为甲基时，R表示碳数2～5的直链或支链烷基；R为甲基、R为乙基时，R表示甲基或碳数3～5的直链或支链烷基。另外，本发明的薄膜形成用原料含有上述通式(I)表示的铜化合物。根据本发明，可提供熔点低、可在液体状态下输送、而且蒸气压大、容易气化的铜化合物及使用其的薄膜形成用原料。
申请人：株式会社ADEKA
地址：日本东京
国籍：JP
代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人：吴宗颐
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