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专利名称：铜基纳米结构体、其制备方法、透明导电膜及电子
装置
专利类型：发明专利发明人：吴嘉名,谭诗圻申请号：CN202010201288.4申请日：20200320公开号：CN111715888A公开日：20200929
摘要：本发明提供一种制备铜基纳米结构体的方法，包括下列步骤：(I)在溶剂中混合碱金属氢氧化物、络合剂和铜源物质，以得到混合物溶液，其中所述铜源物质在溶剂中难以离子化；以及(II)向所述混合物溶液中加入还原剂，以还原生成铜基纳米结构体。本发明还提供了铜基纳米结构体、透明导电膜以及一种电子装置。根据本发明，能够得到杂质离子含量很低的铜基纳米结构体，从而改善其稳定性等，由此得到导电性等提高的透明导电膜以及一种电子装置。
申请人：科技大学
地址：中国九龙清水湾
国籍：CN
代理机构：北京天昊联合知识产权代理有限公司
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